光解除臭設(shè)備注意事項 
 光解除臭設(shè)備是運用***制的高能UV紫外線光束照耀惡臭氣體，裂解惡臭廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵。二、運用高臭氧分化空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，然后產(chǎn)生臭氧，使呈游離情況的污染物分子與臭氧氧化結(jié)組成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。三、運用***制的催化劑進行氧化恢復(fù)反應(yīng)；運用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對惡臭氣體進行協(xié)同分化氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，徹底到達脫臭及殺滅細菌的意圖。

光催化氧化設(shè)備選用的原理是運用光解來對有機廢氣進行轉(zhuǎn)化的，所以只需要在反應(yīng)區(qū)之內(nèi)裝置上紫外線燈管就能夠了，當然，仍是要在進出口的兩端設(shè)置***隔離層，，這樣才能夠保證UV光解廢氣處理設(shè)備在工作的時分，氣流保持在非常平穩(wěn)的情況，也不會產(chǎn)生太***的阻力，就能夠下降整體設(shè)備工作過程中所產(chǎn)生的消耗。

光解除臭設(shè)備

光解除臭設(shè)備注意事項：本設(shè)備不能夠用于凈化易燃、易爆或腐蝕性的氣體；經(jīng)處理后的廢氣須排到室外；內(nèi)置光管紫外線光束對人的眼睛和皮膚有損傷，請穩(wěn)重當心運用；3.運用環(huán)境：環(huán)境溫度：+10～+40℃；濕度：20～90%；氣流溫度＜80℃；

裝置在室外時，應(yīng)有防雨、遮陽的雨篷方法，防止影響設(shè)備的運用壽命。

HPUV型UV光催化氧化廢氣處理設(shè)備的裝置有必要嚴厲依照我司要求進行，進入設(shè)備前應(yīng)該設(shè)置粉塵及空氣過濾設(shè)備，防止粉塵的進入構(gòu)成設(shè)備損壞以及處理作用不合格。