uv光解除臭設(shè)備概述

 

uv光解除臭設(shè)備針對各種惡臭和氣味***域。由于***氣惡臭氣體的***性，自主研發(fā)的新型高效技術(shù)，設(shè)備體積小、占地面積小、能耗低、自動控制方便。根據(jù)實際情況，單級或多級串聯(lián)和并聯(lián)使用。uv光解除臭設(shè)備適用于許多不同的場合，如高濃度和深度處理。其中所含的活性游離氧和高能光子，高度靶向降解各種含有醛、烯烴、有機胺、苯系物等體積5000~80000m3/h廢氣的VOCs，廢氣處理率可達(dá)97%以上。該技術(shù)新穎、安全、廉價，在行業(yè)內(nèi)具有巨***潛力，將在惡臭氣體處理行業(yè)得到廣泛應(yīng)用。

UV光解除臭設(shè)備利用***殊的高能、高臭氧UV光束照射對廢氣進(jìn)行裂解，可有效處理廢氣中的分子鏈結(jié)構(gòu)如硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、甲基硫化物、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC等，這樣有機或無機聚合物廢氣化合物的分子鏈可以降解成低分子化合物，如CO2、H2O等。在高能紫外光束的照射下。