uv光解廢氣處理設(shè)備的工作原理及***點(diǎn)

 

惡臭氣體通過(guò)排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過(guò)排氣管排放到室外，這就是uv光解廢氣處理設(shè)備的工作原理。

 

利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，然后利用臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，完全達(dá)到除臭殺菌的目的。

 

uv光解廢氣處理設(shè)備的***點(diǎn)；

 

uv光解技術(shù)的***點(diǎn)是:成本低，運(yùn)行穩(wěn)定可靠，無(wú)需***別護(hù)理，但廢氣處理速度慢，效率低于低溫等離子體技術(shù)。

 

低溫等離子體是物質(zhì)繼固體、液體、氣體之后的***四種狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體迅速分解，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電過(guò)程中電子溫度很高，但是重粒子的溫度很低，整個(gè)系統(tǒng)處于低溫狀態(tài)，所以稱之為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用高能電子、自由基等這些活性粒子在極短的時(shí)間內(nèi)分解污染物，然后進(jìn)行各種后續(xù)反應(yīng)，達(dá)到降解污染物的目的。(注:與高溫等離子體相比，低溫等離子體屬于常溫操作。等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高能量物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物可以與這些物質(zhì)發(fā)生高能反應(yīng)，使污染物在極短的時(shí)間內(nèi)分解，發(fā)生各種后續(xù)反應(yīng)，達(dá)到解釋污染物的目的。與電暈放電產(chǎn)生的傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)相比，等離子體技術(shù)的放電密度是電暈放電的1500倍，這是傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)未能處理99%工業(yè)廢氣的原因。

 

與目前***內(nèi)常用的惡臭氣體處理方法相比，等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下***點(diǎn):低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體處理，處理效果***，成本高，但運(yùn)行成本極低，無(wú)二次污染，運(yùn)行穩(wěn)定，操作管理簡(jiǎn)單，隨時(shí)可用等。并且可以瞬間處理廢氣，效率高，對(duì)環(huán)境安全系數(shù)要求高。

 

uv光解廢氣處理設(shè)備相對(duì)于其他廢氣處理設(shè)備的***勢(shì)；

 

1.uv光解是紫外線照射技術(shù)，通過(guò)紫外燈管產(chǎn)生的185nm光譜和253.7nm光譜照射廢氣成分，分解廢氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧，利用臭氧氧化分解廢氣。該技術(shù)主要用于殺菌消毒。

 

2.主要設(shè)備配置不同:uv光解設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外燈管和活性炭纖維過(guò)濾層組成。

 

3.不同的移除能力:

 

uv光解產(chǎn)生的臭氧氧化能力為1.24eV，只能氧化一小部分廢氣成分。

 

4.不同的使用壽命:

 

UV光解UV燈管和電源(進(jìn)口產(chǎn)品)8000小時(shí)?；钚蕴坷w維層根據(jù)不同的廢氣濃度頻繁更換。

 

5.設(shè)備應(yīng)用安全防控措施不同:

 

UV光解主機(jī)設(shè)備基本沒(méi)有安全防控措施。

 

6.設(shè)備長(zhǎng)期運(yùn)行的保障措施不同:

 

光量子管在uv光解主機(jī)中長(zhǎng)期運(yùn)行后，管壁附著的結(jié)焦物沒(méi)有在線清洗措施，影響了設(shè)備的運(yùn)行和去除效率。

 

7.一次性投資和能耗不同:

 

1)uv光解一次性投入略低。

 

2)uv光解能耗低。