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低溫等離子除臭設(shè)備工藝原理

未知, 2020-07-03 15:36, 次瀏覽

 低溫等離子除臭設(shè)備工藝原理
 
   眾所周知,紫外線是由電磁波組成,其自身所帶有的能量與波長直接有關(guān),波長越短,能量越***。經(jīng)過選用D波段內(nèi)的真空紫外線,照耀氣體或惡臭氣體分子,當(dāng)這些氣體分子吸收了這類紫外線光后,因紫外線光自身所帶有的能量,使氣體或惡臭氣體分子內(nèi)部發(fā)生裂解,化學(xué)鍵開裂,構(gòu)成游離狀況的原子或基團(tuán)。一起,混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解構(gòu)成游離的氧原子并結(jié)合生成臭氧。混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解發(fā)生羥基,而這些生成的臭氧和羥基具有氧化性,可將廢氣分子裂解發(fā)生的原子和基團(tuán)氧化成H2O和CO2等的低分子化合物。
 
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